出展時(shí)はどうやって権利侵害を避けるべきですか？

出展中に及ぶ知的財(cái)産権紛爭は、多くが特許と商標(biāo)の両面において、両者の共通の特徴は専有性であり、特許や商標(biāo)に関わらず、法定の手続きを経て獲得した後、即ち法律によって保護(hù)され、所有者は排他的権利を有している。権利者の許可なしに、いかなる人も生産経営目的のために、勝手に特許製品を使用、生産、販売または輸出入してはならない。